锅炉、换热器、茶炉、电开水器等在长运行中会生成的水碱，可以使用酸洗除垢，如果设备结垢较少，可采用固体有机酸化学清洗工艺。这种清洗方法适用于腐蚀性很小的设备，所以不需要添加清洗缓蚀剂。一般锅炉按功能分为采暖锅炉、工业锅炉和发电锅炉；下面工业设备清洗公司为大家讲解锅炉化学清洗的优势有哪些

通过物理或机械方法对管线表面的污垢给予一定冲击力使其剥离脱落。采用的方法有高压水射流清洗、PIG清洗、喷砂清洗、旋转机械清洗、吸引清洗及超声波清洗等。

　　在化工生产过程中，因为各种缘由，设备和管线中都会发生如：聚合物、结焦、油尘垢、水垢、沉积物、腐蚀产品等尘垢。这些严重影响了设备的运用，因而进行化工设备清洗十分重要

　清洗前应把被清洗设备或装置中易受清洗液腐蚀损害的部件如调节阀、流量计等拆除，并将过滤器芯(网)及单向阀的阀芯抽除。并采用加临时短管、旁路或盲板等措施以保证清洗过程中不发生泄漏，不损坏其他部件，并使被清洗设备与不清洗设备及管线隔开。

石油石化产品生产过程中，由于其特殊的物理、化学性质，复杂的衍生品的组成，使得石油石化生产及质检过程中器具的清洗变得复杂困难。通常清洗人员采用浸泡液浸泡、毛刷刷洗、超声波清洗、洗衣粉、去污粉等众多的清洗方式进行清洗工作。

　根据多年从事石化设备化学清洗与防腐蚀的经历，尝试从设备不同的材料、设备不同的垢物、设备不同的类型、设备清洗失效的原因、化学清洗中的各种添加剂等进行分析。最后，对工业设备化学清洗的操作经验加以总结。

　物理清洗（冲洗）是不改变污染物的性质，用力量使污染物排出膜元件，恢复膜元件的性能。化学清洗是使用相应的化学药剂，改变污染物的组成或属性，恢复膜元件的性能。吸附性低的粒子状污染物，可以通过冲洗（物理清洗）的方式达到一定的效果。

在半导体器件工艺实验中．化学清洗是指清除吸附在半导体、金属材料以及用具表面上的各种有害杂质或油污。清洗方法是利用各种化学试剂和有机熔剂与吸附在被清洗物体表面上的杂质及油污发生化学反应和溶解作用，或伴以超声．加热、抽真空等物理措施，使杂质从被清洗物体的表面脱附（或称解吸），然后用大量高纯冷热去离子水冲洗，从而获得洁净的物体表面

化学清洗药剂的选择；在清洗之前确定膜表面污垢的类型是非常重要的。进行污垢类型确定的最好方法是对SDI测试膜片上所收集的残留物进行化学分析，以确定污染物的主要类型，以便进行针对性的化学清洗。在不能采用化学分析的情况下，可以根据SDI的测定情况，测试膜片上残留物的颜色、密度，然后对污垢进行分类。比如，呈褐色的残留物引导我们判断是否为铁污垢；白色残留物则可能是硅、砂质粘土、钙垢等；晶状体外形是无机胶体、钙垢的一个特征；生物污垢或者有机污垢，除了从气味上分析判断外，通常还可以看出这类污染物呈现粘稠状。